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    去光阻機

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    等離子去光阻機PA01/PA03B

    產品功能

    快速去除晶圓上之殘留光阻,達到晶圓表面潔凈,蝕刻率同業更高


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    詳情介紹

    產品特色

    .處理均勻性佳

    .離子能量低、不損傷基板

    .沒有電極及基板的污染

    .高密度等離子源

       *等離子效率高、清潔效率高

       *可控制低的離子能量

       *結合化學反應性及物理撞擊性

    .處理速度快、清潔效率高、可靠度高

    .操作范圍廣

    .可使用多種制程氣體

    .全自動且容易操作

    .設備穩定高,容易維護

    .可依客戶需求作更改


    可應用范圍

    .殘余光阻去除

    .PSS 來料清潔制程


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