摘要
產品型號:PA01/PA03B 快速去除晶圓上之殘留光阻,達到晶圓表面潔凈,蝕刻率同業較高
產品介紹
等離子去光阻機
.處理均勻性佳
.離子能量低、不損傷基板
.沒有電極及基板的污染
.專利設計之特殊等離子電極
.高密度等離子源
※ 等離子效率高、清潔效率高
※ 可控制低的離子能量
※ 結合化學反應性及物理撞擊性
.處理速度快、清潔效率高、可靠度高
.操作范圍廣
.可使用多種制程氣體
.全自動且容易操作
.設備穩定高,容易維護
.可依客戶需求作更改
應用行業:
.殘余光阻去除
.藍膜殘膠去除
.PSS 來料清潔制程
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